离心机原理 原子层沉积的原理？
原子层沉积（ATLD）是一种将材料以单原子薄膜的形式逐层沉积在衬底表面的方法。原子层沉积类似于化学沉积。但在原子层沉积过程中，新一层原子膜的化学反应与前一层原子膜直接相关，使得每个反应只沉积一层原子。原子层沉积，又称原子层沉积或原子层外延，由芬兰科学家首次提出并应用于多晶荧光材料ZnS:Mn这些材料用于平板显示器。由于表面化学过程复杂，沉积速率低，这项技术直到上世纪80年代中后期才取得实质性突破，然而到了90年代中期，人们对这项技术的兴趣不断增加，主要原因是微电子和深亚微米芯片技术的发展对芯片尺寸的要求越来越高器件和材料要减少，而器件的长宽比却在增加，所以所用材料的厚度要减少到几个纳米量级[5-6]。因此，体现了原子层沉积技术的优点，如单原子层连续沉积，沉积层厚度极为均匀，一致性好，沉积速度慢的问题并不重要。以下主要论述了原子层沉积的原理和化学，原子层沉积与其它相关技术的比较，原子层沉积设备，原子层沉积的应用和原子层沉积技术的发展。
原子层沉积的原理？
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原子吸收光谱法（AAS），也称为原子吸收光谱法（AAS），是一种仪器分析方法，用于根据待测元素在气相中基态原子共振辐射的吸收强度来确定样品中元素的含量。是测定痕量和超微量元素的有效方法。它具有灵敏度高、干扰少、选择性好、操作简单快捷、结果准确可靠、适用范围广、仪器简单、价格低廉等优点，可实现全自动操作。因此，它近年来发展迅速，是一种应用广泛的新型仪器分析技术。
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