硅生产设备讲解 二氧化硅实验室制备用到哪些东西？
二氧化硅实验室制备用到哪些东西？
主要原料、设备和仪器主要原料为:工业硅酸钠和ρ1.384 g/cm3工业硫酸乳化剂氨合成蜡。主要设备和仪器:搪瓷(带搅拌和夹套加热)釜高速混合机喷雾干燥机气流粉碎机压滤机。
上硅机安全操作规程？
1.打开主电源，然后打开冷水机电源，根据生产流程设定冷却所需的温度。
2.打开空气阀，根据生产流程设定所需的压力、速度、温度、时间等参数。
3.检查设备的紧急开关是否完好灵敏，如有问题立即修理。切记不要让设备带病工作。
4.在温度达到之前，更换准备生产的镶件，同时准备具有所需生产规格的模芯。
5.只有达到该温度后，才能开始生产操作。(唐 如果温度不够，就不要开始生产)。
6.生产作业结束后，关闭水冷器和总电源，然后清理工作台和设备周围的卫生。
什么是硅锭？
硅锭通过化学气相沉积(CVD)或物理气相传输(PVT)从单晶籽晶生长。硅锭是电子工业非常重要的原材料。几乎所有的芯片都可以不用它及其衍生物来合成，可以用来分解成硅颗粒，硅颗粒可以和硅锭一起在结晶器中结晶成硅球。此外，硅锭可在卷板机上压制成硅板。
单晶硅和多晶硅的主要生产设备？
主要设备是晶体炉，它是在惰性气体(主要是氮气和氦气)中，用石墨加热器熔化晶体硅等多晶材料，用提拉法生长无位错晶体硅的一种设备。在单晶硅和多晶硅的实际生产中，它对控制硅晶体的温度和质量起着关键作用。
由于单晶和多晶的直径在生长过程中会受到温度、提拉速度和转速、坩埚跟踪速度、保护气体流量等因素的影响，所以生产的温度主要决定能否形成晶体，而速度会直接影响晶体的内部质量，这只有在单晶和多晶提拉后通过测试才能知道。晶体炉的主要控制方面包括晶体直径、硅功率控制、泄漏率和氩气质量。
上硅机操作规程？
1.打开主电源，然后打开冷水机电源，根据生产流程设定冷却所需的温度。
2.打开空气阀，根据生产流程设定所需的压力、速度、温度、时间等参数。
3.检查设备的紧急开关是否完好灵敏，如有问题立即修理。切记不要让设备带病工作。
4.在温度达到之前，更换准备生产的镶件，同时准备具有所需生产规格的模芯。
5.只有达到该温度后，才能开始生产操作。(温度不够的话千万不要。开机操作生产)。
6.生产作业结束后，关闭水冷器和总电源，然后清理工作台和设备周围的卫生。
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