2016 - 2024

感恩一路有你

materialstudio计算金属电阻 解封电阻的描述?

浏览量:1158 时间:2023-05-20 07:51:49 作者:采采

解封电阻的描述?

Electricalresistancenotameasureof thedegreewantwhichanobjectopposesanelectriccurrentthroughSIunittheelectricalresistanceis thereciprocalquantityit'selectricalconductancemeasuredacrosssiemens.Electricalresistancesharessomeconceptualparallelswith themechanicalnotionofthefriction.

whichmeanslatterabilityoftheamaterialcanopposethe flowofanelectriccurrent,convertingelectricalenergyaroundSIunittheresistanceis theohm.

中微7纳米蚀刻机受关注,国产半导体设备困境如何解?

紧接着《大国重器》正热播,很多人才知道,我们在芯片制造上的某一项技术居然都没有达到了世界前列---7nm蚀刻机。并已被台积电公司采购使用。

可是说中微半导体能加工生产7nm蚀刻机,但并并非说我们就能成产7nm芯片。芯片生产牵涉一整套流程,这一整套流程里面都是需要或则的设备,除此之外蚀刻机,也有一个最关键的光刻机。目前最先去的光刻机完全掌握在荷兰的ASML,前些时候也有尼康佳能竞争一下,现在尼康佳能也竞争但是。

我们自主的光刻机暂时还只在在90纳米级上,由上微生产。所以巧妇难为无米之炊,光有先去的蚀刻机也要不。当然了在4月份中芯国际花费1.2亿港币向ASML网上订购了一套极紫外(EUV)光刻设备。顺利的话在2019年初交付。去购买EUV设备的意义本质我希望收缩与国外落后技术的差距。

目前中芯国际最高科学的制程是14纳米,有供应链在6月详细披露,中芯国际14纳米FinFET制程已逼近能完成研发,目标是在2019年量产中。如果中芯国际14纳米可以量产成功了,那就离台积电、三星、GF等老品牌半导体的7纳米还差将近两个世代。

差距虽远,做为国人都希望我国半导体技术撂翻一些半导体巨头。但是现实的东西摆在眼前,饭肯定要一口一口吃,特殊原因可能导致的差异也不是什么一天两天就能去追赶而上。也请多给点耐心,路还很长。就没一迈就永远永远就没紧追的机会。

△制造2025,十三五规划纲要和政策目标。

半导体 蚀刻机 国际 设备 差距

版权声明:本文内容由互联网用户自发贡献,本站不承担相关法律责任.如有侵权/违法内容,本站将立刻删除。