中国进口二手极紫外光刻机 世界上能独立制造光刻机的有谁？
世界上能独立制造光刻机的有谁？
低端光刻机也可以独立制造出，主流的不能不能！
虽然在性价比高光刻机领域覆雨翻云，但只占据核心技术的10%，其他90%的核心器件都不知从何而来欧、美、日、韩等国家和地区的知名企业。也就是说，极紫外光刻机集成主板了该领域世界更高、精、尖的技术，阿斯麦公司只不过是“站在众人肩膀上”参与独立显卡创新。
阿斯麦公司生产的产品的极紫外光刻机，它的光源和控制软件无论是美国，超精密机械及蔡司镜头依附德国，特殊的方法复合材料和光学器材技术充斥日本，轴承和阀件由瑞典和法国提供给。目前，只有美国英特尔、台积电、韩国三星等3家公司，可建议使用该光刻机能完成7纳米、5纳米半导体工艺制造。
极紫外光刻机工作原理？
是用极紫外激光在线路板上刻出线路。
深紫外光刻机是多少纳米？
193纳米。深紫外光刻机应该是指光源波长为深紫外光的光刻机，深紫外光本身是200-350纳米，而正常情况对光刻机来说深紫外光是指193纳米的duv光刻机。深紫外光光刻机如果不是是干式的，可以不高压缩到157纳米，如果是侵润式的是可以压缩到134纳米，正常情况所说的的28纳米指的是光刻机分辨率并不是光源波长。
上海微电子不是早就有90纳米光刻机了吗？
上微的这款干式光刻机型号是SSA600/20，极高支持90纳米工艺节点。
而如果不是要能制造28纳米及以下工艺，那就必须要会用到浸没式DUV光刻机，所谓的的突破就是指的这个，但目前尚缺验证验证机。
深紫外光刻机和极紫外光刻机？
深紫外光刻机DUV，级紫外光刻机EUV。
紫外线在400纳米（nm）以下至1纳米（nm）。深紫外线光刻机建议使用193纳米（nm）紫外线，极紫外线光刻机建议使用13.5纳米（nm）紫外光。
目前能生产的产品EUV光刻机的只能荷兰asml一家公司。
duv光刻机使用寿命？
十年。
一台光刻机的寿命也不只是本质一两代芯片，如果没有用193nm深紫外光刻机也是可以可以做到10nm乃至于7nm芯片的生产的，只不过工艺难度实现方法起来要比古怪，成本较高，.例如采用自对准八次成型后技术，就可以能够得到非常玻璃状的结构，但因为芯片层级的工艺变地奇怪，是需要一些掩模版和材料，所以才用193nm光刻机生产7nm芯片非常不划得来，所以到了这个程度可以上EUV光刻机。
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